Установка контроля прозрачности сферизованных масок ЦЭЛТ — компл | |
Установка контроля прозрачности сферизованных масок ЦЭЛТ — компл |
Таблица 32-01-101. Оборудование для контроля
Номер расценки | Наименование и характеристика работ и конструкций | ||
---|---|---|---|
Установка визуального контроля качества проявления и качества поверхности полупроводниковых пластин — шт | 29,2 | 0,16 | |
Машина для определения глубины залегания Р-П перехода — шт | 36 | 0,34 | |
Установка функционального контроля — шт | 29,2 | 0,24 | |
Установка двухпозиционная для визуального контроля масок — шт | 37,1 | 0,3 | |
Установка контроля сферы маски — шт | 41,5 | 0,48 | |
Система параметрического функционального контроля полупроводниковых ЗУ и БИС микропроцессоров — компл | 58,4 | 1,2 | |
Установка контроля прозрачности сферизованных масок ЦЭЛТ — компл | 32,6 | 0,23 | |
Система контроля микроканальных пластин по структурным параметрам лазерная с управлением от ЭВМ — компл | 49,4 | 1,3 | |
Установка контроля параметров: микроканальных пластин — компл | 67,4 | 0,9 | |
Установка контроля параметров: катодолюминофоров — компл | 56,1 | 1,38 |